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半導體晶硅行業(yè)用的氮化硅原材料在加工的過程中會排放出含有氮化物、氟等的污染物，因有著耐火、耐腐蝕等的特性現被廣泛應用于半導體行業(yè)中，而隨著電子半導體行業(yè)的不斷發(fā)展，晶硅氮化硅工業(yè)廢水的廢水量也越來越多，對于晶硅脫氮除氟廢水處理應該怎么處理呢?
半導體晶硅工業(yè)廢水中的氮以及氟化合物在經過處理之后是可以進行回收重新利用的，電子產品加工的過程中主要會產生兩類的工業(yè)廢水，一類的酸性，主要來源于廢酸液和廢堿液，其含氟離子和硝態(tài)氮較高，另一類廢水pH值接近中性，其含氟離子量較低但水量大。
宏森環(huán)保主要采用晶硅廢水超濾處理+反滲透系統處理，然后將分離開來的廢水再分別進行處理，最后達到回收部分可利用資源，降低處理成本。
將晶硅廢水運送至半導體晶硅廢水處理設備進行超濾+反滲透系統處理可以分離出含氟含硝態(tài)氮濃水和清水，將分離出來的含氟含硝廢水和強酸性高氟廢水進行混合，廢水在混合之后進入一級沉淀除氟池，往廢水處理設備中加入化學藥劑，反應生成后的氟化鈣沉淀作為泥渣進行去除，接著將廢水中的上清液導入反硝化池。
在反硝化池中是可以將細菌進行生化脫氮，然后將處理后的廢水導入二級沉淀除氟池，接著二級的沉淀除氟池可以使得氟離子形成氟化鈣沉淀而除去，最后晶硅廢水達到了脫氮除氟的目的，廢水達標后即可排放。
